光學(xué)玻璃超聲波清洗機(jī)

研磨后的清洗

研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序,。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,，少數(shù)企業(yè)的加工過(guò)程中會(huì)有漆片,。其中研磨粉的型號(hào)各異,，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物,。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同,，選擇不同型號(hào)的研磨粉,。在研磨過(guò)程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的,，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕,。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種：

一種主要使用有機(jī)溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑,。

（1）有機(jī)溶劑清洗采用的清洗流程如下：

有機(jī)溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥,。

有機(jī)溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯,。由于三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品,，目前處于強(qiáng)制淘汰階段,；而長(zhǎng)期使用三氯乙烯易導(dǎo)致職業(yè)病，而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定,，容易水解呈酸性,，因此會(huì)腐蝕鏡片及設(shè)備。對(duì)此,，國(guó)內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑,，可用于清洗光學(xué)玻璃；并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標(biāo),，可有效滿足不同設(shè)備及工藝條件的要求,。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過(guò)程中，鏡片表面有一層很難處理的漆片,，要求使用具備特殊溶解性的有機(jī)溶劑,；部分企業(yè)的清洗設(shè)備的溶劑清洗槽冷凝管較少，自由程很短,，要求使用揮發(fā)較慢的有機(jī)溶劑,；另一部分企業(yè)則相反，要求使用揮發(fā)較快的有機(jī)溶劑等,。

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物,，溶劑對(duì)其清洗能力很弱,，所以鏡片加工過(guò)程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對(duì)水基清洗劑提出了極高的要求,。以前由于國(guó)內(nèi)的光學(xué)玻璃專用水基清洗劑品種較少,，很多外資企業(yè)都選用進(jìn)口的清洗劑。而目前國(guó)內(nèi)已有公司開(kāi)發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑,，并成功地應(yīng)用在國(guó)內(nèi)數(shù)家大型光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠,，清洗效果完全可以取代進(jìn)口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標(biāo)上更是優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品,。

對(duì)于IPA慢拉干燥,，需要說(shuō)明的一點(diǎn)是，某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印,，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關(guān),，另一方面與清洗設(shè)備有較大的關(guān)系，尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好,，需要設(shè)備廠家及用戶注意此點(diǎn),。

（2）半水基清洗采用的清洗流程如下：

半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥.

此種清洗工藝同溶劑清洗相比最大的區(qū)別在于，其前兩個(gè)清洗單元：有機(jī)溶劑清洗只對(duì)瀝青或漆片具有良好的清洗效果,，但卻無(wú)法清洗研磨粉等無(wú)機(jī)物,；半水基清洗劑則不同,，不但可以清洗瀝青等有機(jī)污染物，還對(duì)研磨粉等無(wú)機(jī)物有良好的清洗效果,，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力,。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢，氣味小,。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在第一個(gè)清洗單元中無(wú)需密封冷凝和蒸餾回收裝置,。但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對(duì)后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用,，所以第二個(gè)單元須市水漂洗,，并且最好將其設(shè)為流水漂洗。

國(guó)內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多,，其中一個(gè)原因是半水基清洗劑多為進(jìn)口,，價(jià)格比較昂貴。

從水基清洗單元開(kāi)始,，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同,。在此不再贅述。

（3）兩種清洗方式的比較

溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法,，其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快,，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生,，循環(huán)使用,；但缺點(diǎn)也比較明顯，由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕,，均為封閉車間,，溶劑的氣味對(duì)于工作環(huán)境多少都會(huì)有些影響，尤其是使用不封閉的半自動(dòng)清洗設(shè)備時(shí),。

半水基清洗是近年來(lái)逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝,，它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)而得來(lái)的。它有效地避免了溶劑的一些弱點(diǎn),，可以做到無(wú)毒,，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng),；設(shè)備上的配套裝置更少,；使用周期比溶劑要更長(zhǎng)；在運(yùn)行成本上比溶劑更低,。半水基清洗劑最為突出的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)就是對(duì)于研磨粉等無(wú)機(jī)污染物具有良好的清洗效果,，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長(zhǎng)了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量,，降低了運(yùn)行成本,。

它的缺點(diǎn)就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進(jìn)行漂洗,。

2,、鍍膜前清洗

鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油（也稱磨邊油，求芯也稱定芯,、取芯,，指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序）、手印,、灰塵等,。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴(yán)格，因此清洗劑的選擇是很重要的,。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí),，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問(wèn)題。 

鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式,，分為溶劑清洗和半水基清洗等方式,。工藝流程及所用化學(xué)藥劑類型如前所述。

3,、鍍膜后清洗 

一般包括涂墨前清洗,、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗（接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀,，以滿足無(wú)法一次加工成型的需求,，或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序）要求最為嚴(yán)格,。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物,，清洗難度不大,，但對(duì)于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個(gè)清洗工藝相同,。