立式化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理,。

技術特征
根據(jù)爐膛尺寸與結構設置溫區(qū)，溫度均勻性好,；
采用特殊結構沉積室,，密封效果好,，抗污染能力強；
采用多通道沉積氣路，流場均勻,，無沉積死角,，沉積效果好；
對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油,、固體粉塵,、有機氣體等能進行有效的處理。

主要配置
爐門：絲杠升降/液壓升降/手動升降,；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊      
爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽：軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC  
加熱器,、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
工藝氣路系統(tǒng)：體積/質量流量計；手動閥/自動閥,；進口/國產(chǎn)     
真空泵和真空計：進口/國產(chǎn)
人機界面：模擬屏/觸摸屏/工控機                         
PLC：歐姆龍/西門子
控溫儀表：日本島電/英國歐陸           
熱電偶：C分度號/S分度號/K分度號/N分度號
記錄儀：無紙記錄儀/有紙記錄儀,；進口/國產(chǎn)   
電器元件：正泰/施耐德/西門子

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