紫外光分解化學物質,，其實就是自然界中大氣自凈機能中的一種,。但透過地球臭氧保護層的太陽光中紫外線強度已經很弱,，因此這種自凈過程時間相對漫長,。UV光解凈化技術,，一定程度上,，就是模擬太陽中紫外光分解凈化廢氣的分解機理,，通過技術手段針對性的,，人為控制了紫外線分解廢氣的分解能量、過程,，短時間內增強紫外線能量的釋放,，加速了這種分解氧化速度，以達到“以能量換取時間”的目的,。惡臭物質能否被裂解,，取決于其化學鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。裂解反應的時間極短（＜0.01s）,，氧化反應的時間需2-3s,。提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不完全而生成一些中間副產物,，從而影響凈化效率,。對于高濃度大分子的有機惡臭物質體現(xiàn)得較為明顯。光催化氧化除臭設備的長期穩(wěn)定,、高效,，需要反應溫度＜70℃，粉塵量＜100mg/m3,，相對濕度＜99%,。條件滿足的情況下，光催化氧化除臭設備的最高凈化效率可達到95%以上,。高效除惡臭：高效去除污染物以及各種惡臭味,；脫臭效率最高可達95%以上；適應性強：可適應高濃度,，大氣量,，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理；運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音,，無需專人管理和日常維護,；
UV光解主要工藝段技術原理：
眾所周知，紫外線是由電磁波組成,，其本身所帶有的能量與波長直接有關,，波長越短，能量越大,。通過采用D波段內的真空紫外線（波長范圍170~184.9nm）,，照射有機氣體或惡臭氣體分子，當這些氣體分子吸收了這類紫外線光后,，因紫外線光本身所帶有的能量,，使有機氣體或惡臭氣體分子內部發(fā)生裂解，化學鍵斷裂,，形成游離狀態(tài)的原子或基團（C*,、H*、O*等）,。同時,，混合氣體中的氧氣被紫外線光裂解形成游離的氧原子并結合生成臭氧【UV O2→O- O*(活性氧) O* O2→O3(臭氧)】；混合氣體中的水蒸氣被紫外線光裂解產生羥基【UV H2O→H OH-(羥基) 】,，而這些生成的臭氧和羥基具有極強的氧化性,，可將廢氣分子裂解產生的原子和基團（甚至是有機氣體或惡臭氣體分子）氧化成H2O和CO2等無污染的低分子化合物。另外,，利用高能紫外線光束可裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應,，徹底達到脫臭及殺菌的目的,。
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