光氧催化設備：

光化學及光催化氧化法是目前研究較多的一項高級氧化技術。所謂光催化反應,，就是在光的作用下進行的化學反應,。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射,，受激產生分子激發(fā)態(tài)，然后會發(fā)生化學反應生成新的物質,，或者變成引發(fā)熱反應的中間化學產物,。光化學反應的活化能來源于光子的能量，在太陽能的利用中光電轉化以及光化學轉化一直是十分活躍的研究領域,。

光催化氧化技術利用光激發(fā)氧化將O2,、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光,，包括uv-H2O2,、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CCl4,、多氯聯苯等難降解物質,。另外，在有紫外光的Fenton體系中,，紫外光與鐵離子之間存在著協同效應,，使H2O2分解產生羥基自由基的速率大大加快，促進有機物的氧化去除,。

技術特點
一,、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物,、硫化氫,、氨氣、硫醇類等主要污染物,，以及各種惡臭味,，脫臭效率高可達99%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）．
二,、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力,，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化,，無需添加任何物質參與化學反應。,，
三,、適應性強：可適應高濃度，大氣量,，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理,，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠,。
四,、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音,，無需專人管理和日常維護,，只需作定期檢查，本設備能耗低,，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能）,，設備風阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗,。
五、無需預處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理,，如加溫,、加濕等,設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%,、PH值在2-13之間均可正常工作,。
六、設備占地面積小,，自重輕：適合于布置緊湊,、場地狹小等特殊條件，設備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量,。
七,、優(yōu)質進口材料制造：防火、防腐蝕性能高,，性能穩(wěn)定,，使用壽命長。
八,、環(huán)保高科技專利產品：通過專家及我公司工程技術人員長期反復的試驗,，開發(fā)研制出的，具有完全自主研發(fā)的高科技環(huán)保凈化產品,，可分解惡臭氣體中有毒有害物質,，并能達到完美的脫臭效果,，經分解后的惡臭氣體，可完全達到無害化排放,，絕不產生二次污染,，同時達到高效消毒殺菌的作用。
適用范圍：
煉油廠,、橡膠廠,、化工廠、制藥廠,、污水處理廠,、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。