納米二氧化硅拋光粉 

晶瑞新材料 甘先生 186 2016  2680微芯:gzjr88

我公司二氧化硅拋光是一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光,

拋光范圍:硅晶圓片,、鍺片,、化合物半導(dǎo)體材料,光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工.金屬鏡面拋光

拋光特點(diǎn):具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高,、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn).如:硅片,、化合物晶體,、光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工.

技術(shù)指標(biāo):

我公司生產(chǎn)的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小,、分散性好,粘度低,拋光亮度高,光澤細(xì)膩,可以解決材料表面粗糙度,、波紋度和表面缺陷等問(wèn)題. 可以做光學(xué)玻璃拋光,玻璃水鉆拋光,寶石拋光,金屬拋光,石材拋光等精拋.也可參雜到拋光膏或拋光蠟里面當(dāng)拋光蠟主料.

 用量

推薦用量為8～20%,調(diào)成漿料再進(jìn)行拋光.

儲(chǔ)藏:常溫密閉儲(chǔ)藏.

包裝:10公斤/袋.

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