無錫吉致電子25年研發(fā)生產——氧化層拋光液 /Oxide slurry/CMP拋光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化學機械拋光液/半導體CMP拋光液/氧化層lapping研磨拋光液/氧化層slurry/氧化層拋光液拋光漿料/氧化層集成電路拋光液/氧化層CMP化學機械拋光液slurry/氧化層拋光液slurry 

磨料類型:半導體cmp拋光液slurry

磨料粒徑:納米級SiO2

產品特點:納米級SiO₂磨料,粒徑均一穩(wěn)定,去除速率穩(wěn)定,金屬離子含量低,通過CMP工藝可有效去除表面氧化層,達到理想平坦度.

吉致電子Oxide Slurry與國內外同類產品相比,具有易清洗,、表面粗糙度低等特點.

吉致電子氧化層拋光液/OxideSlurry拋光液儲存方法:

通風,陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲存,防止陽光直射,零度以下因產生不可再分散結塊而失效.

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格:

吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備,特殊化學配方制備而成.吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品.

本土化生產使得吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快,品質好,拋光液價格親民.

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝,為不銹鋼,、銅,、鋁、陶瓷,、導光板,、五金產品、藍寶石,、光學玻璃等各類拋光加工服務.為您提供可靠拋光解決方案!

無錫吉致電子科技有限公司

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