等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果.等離子體是物質的一種狀態(tài),也叫做物質的第四態(tài),并不屬于常見的固液氣三態(tài).對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài).等離子體的"活性"組分包括:離子,、電子、原子,、活性基團,、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài)),、光子等.等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的.

等離子清洗機采用多組伺服電機控制,清洗深度,高度,寬度等方向可設置參數(shù)調節(jié),可選配多種類型噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產品和處理環(huán)境;主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷,、涂覆,、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;國防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網印刷,、轉移印刷前處理等.

等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質的一種狀態(tài),也叫做物質的第四態(tài).對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài).等離子體的"活性"組分包括:離子,、電子,、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài)),、光子等.等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔,、改性、光刻膠灰化等目的.

等離子清洗的原理:等離子體是物質的一種存在狀態(tài),通常物質以固態(tài),、液態(tài),、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質.等離子體狀態(tài)中存在下列物質:處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子,、原子團(自由基);離子化的原子,、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態(tài).

在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面．以達到清洗目的．

等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵,在任何暴露的表面引起化學反應,不同氣體的等離子體具有不同的化學性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要.利用等離子處理時會發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理.

等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的.就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面.

等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬,、半導體,、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂,、聚氯乙烷,、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗.

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